[정보] 황찬국 박사팀, 방사광 이용 반도체표면 분자 조작기술 개발

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2007-03-29 11:37
postech

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  방사광가속기에서 나오는 고휘도의 극자외선, 연 X-선을 조사하여 반도체 기판 위에 흡착된 분자를 떼어내고 임의의 다른 분자를 이식하는 표면 제어 기술이 포스텍 포항가속기연구소(소장 고인수) 황찬국 박사 연구팀에 의해 개발되었다.


[#M_ more.. | less.. |황 박사팀은 7B1 빔라인(방사광을 뽑아내어 이용하는 관)의 연 X -선을 이용하여 반도체 표면 위에 잘 정렬된 염소 나노막이 제작됨을 확인하고, 8A1 빔라인으로집속된 극자외선을 조사하여 염소 기체를 떼어낸 후 다른 분자를 이식하고 관측하는 것까지 이루어내는데 세계 최초로 성공했다.

현재 반도체 소자 제작에 있어 보편적인 표면 패터닝 방법은 자외선과 고분자 박막을 감광제로 이용한 광학 리소그래피 기술이었지만 빛의 파장과 장치 등의 한계로 60 nm 이하의 미세 표면을 형성하기 어려웠다.

이 연구결과에 의하면 감광제 없이 방사광을 사용하여 60 nm 이하의 분자 나노패턴을 마음대로 조작할 수 있는 길이 열리게 된 것이다.

연구팀은 “향후 최첨단 극자외선 리소그래피 방법과 결합하여 차세대 분자 및 바이오 소자 제작의 핵심 기술을 확보할 수 있을 것”이라고 전망했다.    
이번 연구 결과는 세계적인 재료과학 전문지 ‘어드밴스드 머티리얼즈( Advanced  Materials)' 3월 12일 온라인 판에 발표되었고, 4월호에 정식 게재될 예정이다.

본 연구는 과학기술부와 산업자원부의 나노기반기술 과제‘자기조립구조의 배향을 통한 나노패터닝 기술’(책임자: 박준원 교수, 포스텍 화학과)의 일환으로 진행되었으며, 현재 특허 출원이 진행 중이다.(끝).

출처 : 포항공과대학교 홍보자료
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발표 논문 정보












Nanolayer Patterning Based on Surface Modification with Extreme Ultraviolet Light
S. W. Moon 2, C. Jeon 3, H.-N. Hwang 1, C.-C. Hwang 1 *, H. J. Song 1, H.-J. Shin 1, S. Chung 2, C.-Y. Park 3
1Beamline Research Division, Pohang Accelerator Laboratory (PAL), Pohang University of Science and Technology (POSTECH), Pohang 790-784, Korea
2Department of Physics, Pohang University of Science and Technology (POSTECH), Pohang 790-784, Korea
3BK21 Physics Research Division, Center for Nanotubes and Nanostructured Composites (CNNC), Institute of Basic Science, and Sungkyunkwan University Advanced Institute of Nano Technology (SAINT), Sungkyunkwan University, Suwon 440-746, Korea
email: C.-C. Hwang (cchwang@postech.ac.kr)

*Correspondence to C.-C. Hwang, 1Beamline Research Division, Pohang Accelerator Laboratory (PAL), Pohang University of Science and Technology (POSTECH), Pohang 790-784, Korea


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ISSN:0935-9648
Title:Advanced Materials
Publishing Body:Wiley - V C H Verlag GmbH & Co. KGaA
Country:Germany
Status:Active
Start Year:1989
Frequency:Semi-monthly
Document Type:Journal; Academic/Scholarly
Refereed:Yes
Abstracted/Indexed:Yes
Media:Print
Alternate Edition ISSN:1521-4095, 0948-1907
Language:Text in English





Subject:ENGINEERING - ENGINEERING MECHANICS AND MATERIALS
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출처



  1. Wiley interscience
  2. Ulrich's periodical directory
  3. JCR



 

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